据韩科信部报道，韩美联合研究团队利用单原子层水平粗糙度的超平铜薄膜，在理论和实验中首次验证了铜的氧化原理。查明氧气进入途径及开发防止氧气自行氧化的薄膜技术。相关研究成果发表在《自然》上。

经1年持续使用高分辨率透射电子显微镜观测暴露在空气中的超平铜薄膜，研究人员没有观察到铜表面的自然氧化物膜和原子层面的氧化。计算氧气进入铜内部的能量变化的结果显示，当表面粗糙度在两个原子层以上时，氧气很容易渗透到铜内部，但在完全平坦的表面或单原子层时，氧气渗透需要很大能量，因此常温下不会发生氧化。同时超平薄膜表面存在的氧气具有始终维持在50％的自我调节功能。（转自科技部合作司）-